用途：清洗各种玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等材质的小瓶、器皿及ICP/MS的配件。

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军工制造，电话：029-88537832/13891890776

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附设溶液加热自动装置，温控范围：室温-70℃。 附设超声清洗定时装置，1-60分钟内任意设定。 超声波频率有四种，可任选一种。订货如无注明频率均为40KHz

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650型显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。

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W-200 浸泡清洗机采用清洗剂溶液浸泡结合超声波工作方式，柔性、高效地达到清洁效果，广泛应用食品安全、生物医药、石油化工等行业的各种实验器皿、工具器件等清洁。

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台式反应离子刻蚀系统，台式反应离子刻蚀(RIE)系统，圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。

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810LX/815LX/820LX/910UP/1300UP/1400UP/1600UP

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有效容积:420L 按功能分:普通型功能型医用型 按大小分:大型 是否标配清洗架:是

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